工藝:
一.青島鋁氧化自然氧化:
氧化膜薄,厚度約為0.5~4微米,多孔,質軟,吸附性好,可作為有幾涂層的底層,但其耐 磨性和耐腐蝕性不比陽極氧化膜好;
二.電化學氧化:
氧化膜厚度約5~20微米(硬陽極氧化膜厚度可達60~200微米),硬度高,耐熱隔緣性好,耐腐蝕性高于化學氧化膜,多孔,吸附性好。
配方:
①純鋁配方1.2適用于純鋁.鋁 鎂 合金.鋁錳合金和鋁硅合金的化學氧化。薄膜顏色為金黃色,但后兩種合金上的氧化膜顏色較深。堿性氧化物中的膜層柔軟,耐腐蝕性差,孔隙率高,吸附性好,適用于涂層底層。
②在配方3中加入Sodium silicate,獲得的氧化膜無色,硬度和耐腐蝕性略高,孔隙率和吸附性略低。Sodium silicate質量分數為百分之2的溶液可單獨用作保護層,適用于氧化含重 金屬的鋁合金。
③氧化后,為了上升工件的耐腐蝕性,可在20歲時使用g/L的CrO3.室溫下鈍化處理5~15s,然后在低于50℃溫度下干燥。